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東芝20nm級NAND閃存新廠Fab 5開工建設

東芝公司今天宣布,位于日本三重縣四日市的東芝NAND閃存晶圓廠新廠房Fab 5已經正式開工建設,預計2011年春竣工。東芝同時還宣布,與SandiDisk公司達成初步協議,將成立一個新的合資企業,專門運作Fab 5工廠。

由于新興市場如智能手機、固態硬盤對NAND閃存的需求與日俱增,東芝決定新建廠房擴大NAND閃存制造產能。Fab 5將獨立于東芝四日工廠的其他部分,根據投資規模和市場趨勢分兩期進行建設。第二期工程建成后,Fab 5的規模將和旁邊的Fab 4相當,占地面積3.8萬平方米。東芝和SanDisk將根據市場趨勢靈活決定后續生產設備投資,并依照投資比例分配產能。

Fab 5將直接使用最先進的20nm級工藝制造NAND閃存。其建筑包含地震吸能結構,半導體制造設備使用變頻泵,全面采用LED照明以及各種節能設備,全廠二氧化碳排放量將比Fab 4降低12%。

除了新建Fab 5外,東芝和SanDisk公司還將加速提升現有廠房無塵室空間的利用率。預計在Fab 5投產時,Fab 4即可實現全產能運行。

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